在計算機(jī)領(lǐng)域，CMOS常指保存計算機(jī)基本啟動信息（如日期、時間、啟動設(shè)置等）的芯片。有時人們會把CMOS和BIOS混稱，其實(shí)CMOS是主板上的一塊可讀寫的并行或串行FLASH芯片，是用來保存BIOS的硬件配置和用戶對某些參數(shù)的設(shè)定。

在今日，CMOS制造工藝也被應(yīng)用于制作數(shù)碼影像器材的感光元件，尤其是片幅規(guī)格較大的單反數(shù)碼相機(jī)。

一、設(shè)備概述：

威固特公司生產(chǎn)的CMOS“互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體”全自動超聲波清洗機(jī)，整個工藝流程使用PLC編程控制，可根據(jù)清洗工藝要求，靈活設(shè)置動作參數(shù)。采用全自動化運(yùn)行過程，用來清洗CMOS“互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體”效果特別好，溶劑保持潔凈時間長，實(shí)現(xiàn)清洗流程的自動化作業(yè)，降低操作人員勞動強(qiáng)度，提高設(shè)備的生產(chǎn)能力和清洗效果。

二、結(jié)構(gòu)組成：

超聲波清洗系統(tǒng)：采用SUS不銹鋼制作，采用日本技術(shù)超聲換能器、發(fā)生器；

多臂式機(jī)械輸送裝置：PLC控制、伺服電機(jī)、伺服驅(qū)動器、減速器、直線導(dǎo)軌、氣缸及其他配置；

過濾系統(tǒng)不銹鋼過濾器：水泵、過濾器、閥門、管路、過濾棉芯；

加熱系統(tǒng)：加熱管、液位控制、溫度器及其他配置；

水快進(jìn)快出系統(tǒng)：儲水箱、氣動閥、液位控制器、電磁水閥等；

自動進(jìn)出料系統(tǒng)：電磁閥、氣缸、導(dǎo)軌及其它配置；

進(jìn)排液管路：全部采用不銹鋼材料制做；

電氣控制裝置：PLC控制、電控材料、數(shù)顯觸摸屏；

底盤機(jī)架：不銹鋼材料制作。

三、清洗工藝流程：

自動上料→1.超聲波洗劑清洗→2.純水漂洗→3.超聲波漂洗→4.超聲波漂洗→5.超聲波漂洗→超聲波漂洗→自動下料。

四、清洗優(yōu)勢：

威固特全自動超聲波清洗機(jī)被公認(rèn)為當(dāng)前效率最高，效果最好的清洗方式，其清洗效率達(dá)到百分之九十八以上，清洗潔凈度也達(dá)到最高級別，而傳統(tǒng)的手工清洗和有機(jī)溶劑清洗的清洗效率僅僅為百分之六十到百分之七十,即使是氣相清洗和高壓水射流清洗的清洗效率也低于百分之九十；因此，CMOS“互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體”全自動超聲波清洗機(jī)以其效率高、效果好，適用于大工作量清洗的特性無疑是清洗的最佳選擇，這也是為什么凡是對潔凈度要求高的行業(yè)都會優(yōu)先選擇威固特超聲波清洗機(jī)來清洗的原因。

五、注意事項(xiàng)：

1、檢查機(jī)器是否安裝妥善，將所有的支撐腳旋下，將機(jī)器調(diào)至水平位置；

2、將所有的電源開關(guān)置于“關(guān)”的位置，檢查電源是否合乎要求，機(jī)殼接地是否可靠；

3、檢查供水與排水管路連接是否正確；

4、清洗槽內(nèi)無清洗液時，絕對不能啟動過濾，否則會損壞水泵；

5、槽內(nèi)無清洗液時，絕對禁止加熱，否則會損壞發(fā)熱設(shè)備；

6、不得將物體直接放入清洗槽中清洗，如有異物落入槽底應(yīng)及時取出；

7、每周要對清洗機(jī)進(jìn)行潔凈，這樣可以提高超聲波清洗的壽命；

8、清洗劑的更換周期：用戶根據(jù)工件的清洗工件量及清洗液的干凈程度來決定；

9、不可將液體濺濕到加熱器；

10、更換清洗液時，應(yīng)關(guān)閉噴淋泵，停止加熱，清洗液溫降至常溫后進(jìn)行；

11、各清洗槽內(nèi)沉積物過多時應(yīng)及時放液沖洗清除；

12、在清洗槽注滿清洗液的情況下應(yīng)盡量避免推動或搬移清洗機(jī)；

13、下班或不使用時，請關(guān)閉所有加熱，水泵及超聲波。若是長時間停止使用清洗機(jī)，請將電氣控制柜內(nèi)的總電源開關(guān)斷開。